高温高压激光浮区单晶炉
上海润洽公司推出的激光浮区法单晶生长系统是新一代高性能激光浮区炉具有更高功率、更加均匀的能量分布和更加稳定的性能,将浮区法晶体生长技术推向一个全新的高度!
应用领域:可广泛用于凝聚态物理、化学、半导体、光学等多种学科领域相关单晶材料制备,尤其适合高饱和蒸汽压、高熔点材料及高热导率材料等常规浮区法单晶炉难以胜任的单晶生长工作。
激光浮区法单晶生长系统可广泛用于凝聚态物理、化学、半导体、光学等多种学科领域相关单晶材料制备,尤其适合高饱和蒸汽压、高熔点材料及高热导率材料等常规浮区法单晶炉难以胜任的单晶生长工作,跟传统的激光浮区法单晶生长系统相比,上海润洽公司推出的新一代激光浮区法单晶炉系统具有以下技术优势:
1、采用全新五束激光设计,确保熔区能量分布更加均匀。
2、更加科学的激光光斑优化方案,有助于降低晶体生长过程中的热应力。
3、采用了特的实时温度集成控制系统。

技术参数
机器型号 | RQM-0020 | RQM-0050 | RQM-0100 |
清洗宽度 | 0-80mm(可定制) | 0-80mm(可定制) | 0-80mm(可定制) |
激光功率 | 20W | 50W | 100W |
激光波长 | 1064±5nm | 1064nm±5nm | 1064nm±5nm |
适用材料 | 金属表面 | 金属表面 | 金属表面 |
脉冲频率 | 10-100KHZ | 10-100KHZ | 10-100KHZ |
清洗速度(浮锈) | 0.5-1.5m2/h | 1-3m2/h | 3-5m2/h |
扫描速度 | ≤6000mm/s | ≤6000mm/s | ≤6000mm/s |
设备功率 | ≤800W | ≤1000KW | ≤1500W |
定位精度 | ±0.03mm | ±0.03mm | ±0.03mm |
重复定位精度 | ±0.02mm/m | ±0.02mm/m | ±0.02mm/m |
冷却方式 | 风冷 | 风冷 | 风冷 |
电力需求 | AC220V | AC220V | AC220V |
联系我们
业务洽谈,寻找合作伙伴,加入我们。